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C2GR16-氣相沉積爐

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

C2GR16-氣相沉積爐熱誘導(dǎo)的化學(xué)氣相滲透(英語(yǔ):chemical vaporinfiltration ,CV)是一個(gè)與CVD有關(guān)的技術(shù),以在基體材料滲入多孔或纖維預(yù)成型件以制備由復(fù)合材料制成的部件具有改善的機(jī)械性能,耐腐蝕性,耐熱沖擊性和低殘余應(yīng)力。

產(chǎn)品型號(hào):
更新時(shí)間:2024-09-26
廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
訪問(wèn)量:11007
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一、C2GR16-氣相沉積爐基本原理與特點(diǎn)

1.基本原理:
熱誘導(dǎo)化學(xué)氣相沉積(英語(yǔ):chemical vapor deposition ,CVD)是用于各種電介質(zhì),半導(dǎo)體和金屬材料的保護(hù)涂層的沉積的有力方式,無(wú)論是單晶,多晶,無(wú)定形或外延狀態(tài)上或大或小的形態(tài)。典型的涂層材料包括熱解碳,碳化硅,氮化硼。通過(guò)使用合成前體,涂層非常純凈并目滿足半導(dǎo)體工業(yè)的典型要求,根據(jù)工藝參數(shù),可以有多種層厚度,從單個(gè)或幾個(gè)原子層到厚度從10納米到數(shù)百微米的固體保護(hù)層或功能層,以及厚度達(dá)100微米的單片部件,甚至高達(dá)數(shù)毫米

2.設(shè)備特點(diǎn):
(1)采用臥式、側(cè)開(kāi)門(mén)結(jié)構(gòu),裝、卸料精度高,操作方便;
(2)采用先進(jìn)的控制技術(shù),能精密控制MTS的流量和壓力,爐膛內(nèi)沉積氣流穩(wěn)定,壓力波動(dòng)范圍小;
(3)溫度均勻性好,平均溫度均勻性為±5℃;
(4)采用多通道沉積氣路,流場(chǎng)均勻,無(wú)沉積死角,沉積效果好;
(5)全封閉沉積室,密封效果好,抗污染能力強(qiáng);
(6)安全性能好,采用HMI+PLC+PID程序控制,安全可靠;
(7)對(duì)沉積產(chǎn)生的高腐蝕性尾氣、易燃易爆氣體、固體粉塵及低熔點(diǎn)粘性產(chǎn)物能進(jìn)行有效處理;
(8)多級(jí)高效尾氣處理系統(tǒng),環(huán)境友好,能高效收集焦油及副產(chǎn)物,易清理;
(9)采用設(shè)計(jì)防腐蝕真空機(jī)組,持續(xù)工作時(shí)間長(zhǎng),維修率極低。

二、C2GR16-氣相沉積爐主要技術(shù)參數(shù):

1 編號(hào) C2GR16
2 產(chǎn)品型號(hào) VHCgr-20/20/30-1600
3 最高設(shè)計(jì)溫度(℃) 1600
4 加熱元件 等靜壓石墨
5 加熱功率(kW) 45
6 冷態(tài)極限真空度(Pa) 6.7x10-3Pa(空爐、冷態(tài)、經(jīng)凈化)
7 測(cè)溫元件 鎢錸熱電偶
8 升溫速率 1~20℃/min
9 溫度均勻性 ±5℃(5點(diǎn)測(cè)溫,恒溫區(qū)1000℃保溫1h后檢測(cè))
10 爐膛尺寸(mm) 200x200x300(WxHxD)
11 可通入氣氛 1路CH3SiCI3、1路氨氣、1路氫氣、1路氮?dú)?/td>
12 氣氛流量計(jì) 4路質(zhì)量流量計(jì)
13 設(shè)備外形尺寸(mm) 1425x1550x1850mm(LxWxH)

 

三、化學(xué)氣相沉積爐(CVD氣相沉積爐)產(chǎn)品展示圖:

C2GR16-氣相沉積爐

C2GR16-氣相沉積爐

 

 

 

 

 

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